フォトリソグラフィ市場

発刊日
2014/11/19
体裁
B5 / 24頁
資料コード
R56201202
PDFサイズ
0.6MB
PDFの基本仕様
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調査資料詳細データ

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調査期間:2014年2月 ※当レポートは左記の期間に調査を実施した商品です

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リサーチ内容

以前から限界を迎えつつあるとされながらも延命を続けているフォトリソグラフィ技術の最新動向!

【調査要領】
(1)調査主旨と方法
  本レポートはフォトリソグラフィ市場の概要を捉えることを目的とした。
  主要プレーヤーへの電話ヒアリング(2社)を主体に文献、ウェブ調査を併用した。
(2)調査期間
  2013年12月26日~2014年1月25日(Yano E plus2014年2月号再編集)
(3)企画・制作
  エネルギー&機械産業グループ

【収録内容】
1.フォトリソグラフィとは
2.フォトリソグラフィの発展経緯
3.フォトリソグラフィプロセスと最新技術
    【表1.フォトリソグラフィプロセスの概略】
    【図1.フォトリソグラフィによってウエハ上に形成された典型的な回路パターンの写真】
  3-1.フォトリソグラフィに用いられる光源
    【表2.半導体の微細化と露光光源】
    【図2.EUV露光装置の典型的な模式図】
    【図3.電子線露光法の典型的なプロセスの模式図】
    【図4.SR光を用いたX線露光装置の模式図】
  3-2.液浸露光技術
    【図5.液浸露光技術の原理を示した模式図】
  3-3.液晶フォトリソグラフィ
    【図6.液晶用のフォトリソグラフィ露光装置の外観写真】
4.フォトリソグラフィ露光装置の市場規模推移と予測
    【図・表1.フォトリソグラフィ露光装置の国内市場規模推移と予測(数量・金額:2010-2015年予測)】
    【図・表2.フォトリソグラフィ露光装置のWW市場規模推移と予測(数量・金額:2010-2015年予測)】
    【図・表3.フォトリソグラフィ露光装置の光源別WW 市場規模推移と予測(金額:2010-2015年予測)】
    【図・表4.フォトリソグラフィ露光装置の需要分野別WW 市場規模推移と予測(金額:2010-2015年予測)】
5.フォトリソグラフィ露光装置の企業シェア
    【図・表5.フォトリソグラフィ露光装置のWW市場における企業シェア(2012年:全体)】
    【図・表6.フォトリソグラフィ露光装置の分野別WW市場における企業シェア(2012年:半導体)】
    【図・表7.フォトリソグラフィ露光装置の分野別WW市場における企業シェア(2012年:液晶)】
6.フォトリソグラフィの主要取組企業・団体の動向
  6-1.大阪大学産業科学研究所
  6-2.キヤノン株式会社
  6-3.株式会社ニコン
  6-4.ASMLホールディング(オランダ)
7.フォトリソグラフィの将来展望

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