2019年版 ワイドバンドギャップ半導体単結晶市場の現状と展望 ~SiC、GaN、Ga203、その他~

Siの次世代材料として注目を集めているワイドバンドギャップ半導体単結晶について各材料の市場における立ち位置を改めて見直し、課題や今後の展望を詳らかにします。また、単結晶プレーヤーを中心に、企業、研究機関、大学などへのヒアリングを経て各材料のターゲット用途を把握し、今後の方向性とその進捗を俯瞰します。

発刊日
2019/09/下旬
体裁
A4 / 約150頁
資料コード
C61106200
PDFサイズ
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調査資料詳細データ

資料ポイント
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  • 搭載フェーズで次々とカタチになる各材料 取り残されるのは何か
  • SiC単結晶ウエハーサプライヤーはその優位性から長期契約に乗り出し、安定供給狙う。新興勢力の狙いはニッチ中のニッチ
  • 光関係だけでなく、パワー用途でも開発が活発なGaN、不透明な5Gの需要に向けにわかに湧き上がる
  • Ga2O3は各社の濃淡がより強くなろうとし、本当に使えるのか評価が分かれるタイミングに
  • 殺菌用途で人気のAlN、ホモエピだけでなく、onサファイアでヘテロエピしたデバイスでも高評価
  • ダイヤモンドは海外での人造・人工宝飾ダイヤ界隈からの見えないプレッシャー動向と影響

リサーチ内容

2019年8月23日更新
※掲載予定内容、発刊予定日等に一部変更が生じる場合がございます。

■掲載予定内容

<調査対象分野>
SiC(炭化ケイ素)、GaN(窒化ガリウム)、Ga2O3(酸化ガリウム)、AlN(窒化アルミニウム)、ダイヤモンド

<調査対象企業>
昭和電工、住友商事/ Cree(WolfSpeed)、Ⅱ-Ⅵ、サイコックス、東洋炭素、新興製作所、住友電工、エア・ウォーター、三菱ケミカル、サイオクス/伊藤忠プラスチックス、リコー、伯東/Sain-Gobain、日本ガイシ、SORAA、豊田中央研究所、日本製鋼所、ノベルクリスタルテクノロジー、FLOSFIA、信州大学/不二越機械工業、トクヤマ、JFEミネラル、岡谷鋼機/HexaTech、創光科学、旭化成エレクトロニクス/Crystal IS、物質材料研究機構、EDP、アダマンド並木精密宝石、佐賀大学、オーエステック、ニューメタルスエンドケミカルスコーポレーション、セラミックフォーラム、デンソー、京都大学、東北大学、名古屋大学、大阪大学、産業技術総合研究所、三安光电、Global Wafers、Six Point Materials、上海大革智能科技(Shanghai RevoDeve Innovation Technology)、英諾賽科(珠海)科技(Innoscience (Zhuhai) Technology)、東莞市天域半導体科技(TYSiC)、东莞市中镓半导体科技(SINO NITRIDE SEMICONDUCTOR)
(順不同、法人格省略、現在調査中のため変更する場合があります)

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