EUVの最新動向(2021年1月調査)

発刊日
2021/05/17
体裁
B5 / 42頁
資料コード
R63200402
PDFサイズ
5.3MB
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調査資料詳細データ

調査概要
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本調査レポートは、定期刊行物 Yano E plus 2021年2月号 に掲載されたものです。

リサーチ内容

~遂に最大の難関であったEUVLが量産化工程へ採用され、
 次のターゲットである2nmに向けた次世代EUVLの開発も進んでいる~

1. 量産スタートしたEUVLプロセス

2. EUVLの特長

2-1. 微細描画の実現
2-2. スループットの大幅上昇
2-3. マスクパターンに対する忠実度向上

3. EUVL量産採用を実現したブレークスルー

4. EUVの市場規模推移と予測

【図・表1.EUVのWW市場規模推移と予測(金額:2018-2023年予測)】
【表1.EUVの分類別WW市場規模推移と予測(金額:2018-2023年予測)】
【図1.EUV装置の分類別WW市場規模推移と予測(金額:2018-2023年予測)】
【図2.EUV材料の分類別WW市場規模推移と予測(金額:2018-2023年予測)】

5. EUVに関連する企業・研究機関の取組動向

5-1. ウシオ電機株式会社
  (1) SnLDP技術開発の歩み
  (2) SnLDP技術の概要
    【図3. SnLDP方式の原理を示す光源発光部の模式図】
    【図4. SnLDPのディスク部分(左)と、そこからEUV発光しているところ(右)】
    【図5. SnLDP光源を装着したメインキャビネットS910シリーズの外観】
  (3) EUVLマスク検査用EUV光源を量産プロセス向けとして初検収
    【図6. EUV光源を搭載した開発用評価施設外観(写真提供:TNO) 】
  (4) 次世代半導体向けEUV光源事業をブランド化し、さらに注力していく
5-2. 大日本印刷株式会社(DNP)
  (1) 5nm対応EUVL向けフォトマスクプロセスの開発
    【図7. EUVL向け5nmプロセスに相当する高精度なフォトマスク(左)、
    パターン拡大写真(右)】
    【図8. EUVLプロセスによる工程短縮】
  (2) マルチ電子ビームマスク描画装置の開発・導入
    【図9. マルチ電子ビームマスク描画装置の模式図】
5-3. 国立大学法人東京工業大学
  (1) EUVをコンパクトに発生
  (2) 高分子電解質のシャボン玉を使ったEUV発生[3]
    【図10. (a)SnでコーティングされたマイクロカプセルターゲットのSEM像、
    (b)(a)の拡大像、(c)対応するSnのEDSマッピング】
    【図11. 12.5nmEUV発光スペクトル】
    【図12. ダブルパルス法(左)および今回用いたシャボン玉ターゲット(右)】
5-4. 公立学校法人兵庫県立大学
    【図13. 播磨科学公園都市(左)に設置されているニュースバル放射光施設(右)】
  (1) EUVL用マスクの評価技術の開発
    ① 光源に偏向電磁石からの白色光をMo/Si多層膜で分光した
    EUVを利用した最初のCSMシステム
    【図14. CSMの外観】
    【図15. 強度コントラスト(左)および位相コントラスト(右)で示される
    マスクパターンの再構成画像。(a)クロスパターン、(b)128 nm L/Sパターン、
    (c)プログラムされた位相1mm四方のサイズの欠陥。スケールバーは2mm】
    ② 微小集光型CSM(マイクロCSM)
    【図16. 集束光学用のFZPを備えたマイクロCSMの模式図】
    【図17. マイクロCSMによって再構成された画像】
  (2) EUVL用レジストの開発・評価
    ① レジスト先行開発用EUV干渉露光
    【図18. EUV光による2光干渉露光の原理を示す模式図】
    【図19. EUV干渉露光によるレジストパターン形成結果】
    ② EUVレジスト開発
    【図20. 感度とLERの関係】
  (3) 光学素子用の反射率測定系
    【図21. X線大型光学素子評価装置 外観(左)と内部構造(右)】
  (4) 水素下でのEUV用マスク材料評価
    【図22. ニュースバルにおける水素暴露装置の模式図】
5-5. 国立大学法人北海道大学
  (1) EUVL光源用プラズマ生成方式としてのLPP方式
  (2) 高効率EUV光源のプラズマ構造
    【図23. EUVL光源用プラズマ生成の様子を示した模式図】
  (3) EUV光源用プラズマのLTS計測
  (4) 電子密度・温度の2次元分布計測
5-6. レーザーテック株式会社
  (1) EUVマスク欠陥検査装置のラインナップ
    【図24. EUVマスク欠陥検査装置のラインナップ】
  (2) EUVマスクブランクス欠陥検査装置「ABICS E120」
    【図25. EUVマスクブランクス欠陥検査装置「ABICS E120」の外観】
    【図26. EUVマスクブランクス検査で検出できる欠陥の種類】
  (3) EUVパターンマスク欠陥検査装置「ACTIS A150」
    【図27. EUVパターンマスク欠陥検査装置「ACTIS A150」の外観】
    【図28. APMI検査の特徴】
    【図29. APMIが適用可能なプロセス】

6. EUVLの将来展望

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