半導体・ディスプレイ製造CVD装置用クリーニングガスNF3市場(2018年12月調査)

発刊日
2019/04/15
体裁
B5 / 23頁
資料コード
R61200202
PDFサイズ
0.6MB
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調査資料詳細データ

調査概要
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本調査レポートは、定期刊行物 Yano E plus 2019年1月号 に掲載されたものです。

リサーチ内容

~半導体・ディスプレイ市場動向に加え、半導体工程の微細化や
 ディスプレイ市場の有機ELシフトが今後の需要増要因~

1.半導体・ディスプレイ製造CVD装置用クリーニングガスとは
  1-1.半導体・ディスプレイ製造工程におけるCVDの利用状況
  【表1.LPCVDとPECVDの特徴】
  【図1. PECVD装置の構造】
  1-2.半導体・ディスプレイ製造CVD装置用クリーニングガスの定義
2.半導体・ディスプレイ製造CVD装置用クリーニングガスの種類
  2-1.三フッ化窒素(NF3)
  【図2.NF3の構造】
  2-2.フッ素(F2)
3.半導体・ディスプレイ製造CVD装置用クリーニングガスNF3の用途分野
  3-1.半導体(半導体市場の技術動向とNF3ガスの需要関係)
  3-2.ディスプレイ(ディスプレイ市場の技術動向とNF3ガスの需要関係)
  3-3.太陽電池
4.半導体及びディスプレイの市場規模推移と予測(WW市場)
  4-1.半導体市場規模推移と予測(WW市場)
  (1)メモリ半導体(DRAM、NANDフラッシュ)の市場規模推移と予測(WW市場)
  【図・表1.メモリ半導体(DRAM、NANDフラッシュ)のWW市場規模推移と予測
  (金額:2016-2021年予測)】
  (2)ファウンドリのWW市場規模推移と予測(WW市場)
  【図・表2.ファウンドリのWW市場規模推移と予測
  (金額:2016-2021年予測)】
  4-2.ディスプレイ市場規模推移と予測(WW市場)
  (1)液晶・有機ELの市場規模推移と予測(WW市場)
  【図・表3.液晶・有機ELのWW市場規模推移と予測
  (金額:2016-2021年予測)】
  ①ディスプレイ市場の動向
5.NF3ガスに関する市場規模推移と予測
  5-1.NF3ガスの市場規模推移と予測
  【図・表4.NF3ガスのWW市場規模推移と予測(数量:2016-2021年予測)】
  5-2.NF3ガスのメーカーシェア
  【図・表5.NF3ガスの主要メーカー各社の出荷数量及びシェア
  (数量:2017-2018年見込)】
6.NF3ガスの主要メーカーの生産能力、及び製法
  6-1.NF3ガスの主要メーカーの生産能力
  【図・表6.NF3ガスの主要メーカー各社の生産能力(数量:2018年)】
  6-2.NF3ガスの製法
  【表2.NF3ガスの主要メーカー各社の量産製法の系列】
7.NF3に関連した企業・団体の取組動向
  7-1.SKマテリアルズ株式会社
  【表3.SKマテリアルズECF法、及びDF法に関する特許】
  7-2.株式会社暁星化学(Hyosung)
  【表4.暁星化学ECF系製法に関する特許】
  7-3.関東電化工業株式会社
  【表5.関東電化工業DF系製法に関する特許】
  7-4.バースーム・マテリアルズ/Versum Materials, Inc.
  (旧エアー・プロダクツ・アンド・ケミカルズ)
  【表6.バースーム・マテリアルズDF系製法に関する特許】

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