半導体・ディスプレイ製造CVD装置用クリーニングガスNF3市場（2018年12月調査）
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調査資料詳細データ
本調査レポートは、定期刊行物 Yano E plus 2019年1月号 に掲載されたものです。
～半導体・ディスプレイ市場動向に加え、半導体工程の微細化や
ディスプレイ市場の有機ELシフトが今後の需要増要因～
1．半導体・ディスプレイ製造CVD装置用クリーニングガスとは
1-1．半導体・ディスプレイ製造工程におけるCVDの利用状況
【表1．LPCVDとPECVDの特徴】
【図1． PECVD装置の構造】
1-2．半導体・ディスプレイ製造CVD装置用クリーニングガスの定義
2．半導体・ディスプレイ製造CVD装置用クリーニングガスの種類
2-1．三フッ化窒素（NF3）
【図2．NF3の構造】
2-2．フッ素（F2）
3．半導体・ディスプレイ製造CVD装置用クリーニングガスNF3の用途分野
3-1．半導体（半導体市場の技術動向とNF3ガスの需要関係）
3-2．ディスプレイ（ディスプレイ市場の技術動向とNF3ガスの需要関係）
3-3．太陽電池
4．半導体及びディスプレイの市場規模推移と予測（WW市場）
4-1．半導体市場規模推移と予測（WW市場）
（1）メモリ半導体（DRAM、NANDフラッシュ）の市場規模推移と予測（WW市場）
【図・表1．メモリ半導体（DRAM、NANDフラッシュ）のWW市場規模推移と予測
（金額：2016-2021年予測）】
（2）ファウンドリのWW市場規模推移と予測（WW市場）
【図・表2．ファウンドリのWW市場規模推移と予測
（金額：2016-2021年予測）】
4-2．ディスプレイ市場規模推移と予測（WW市場）
（1）液晶・有機ELの市場規模推移と予測（WW市場）
【図・表3．液晶・有機ELのWW市場規模推移と予測
（金額：2016-2021年予測）】
①ディスプレイ市場の動向
5．NF3ガスに関する市場規模推移と予測
5-1．NF3ガスの市場規模推移と予測
【図・表4．NF3ガスのWW市場規模推移と予測（数量：2016-2021年予測）】
5-2．NF3ガスのメーカーシェア
【図・表5．NF3ガスの主要メーカー各社の出荷数量及びシェア
（数量：2017-2018年見込）】
6．NF3ガスの主要メーカーの生産能力、及び製法
6-1．NF3ガスの主要メーカーの生産能力
【図・表6．NF3ガスの主要メーカー各社の生産能力（数量：2018年）】
6-2．NF3ガスの製法
【表2．NF3ガスの主要メーカー各社の量産製法の系列】
7．NF3に関連した企業・団体の取組動向
7-1．SKマテリアルズ株式会社
【表3．SKマテリアルズECF法、及びDF法に関する特許】
7-2．株式会社暁星化学（Hyosung）
【表4．暁星化学ECF系製法に関する特許】
7-3．関東電化工業株式会社
【表5．関東電化工業DF系製法に関する特許】
7-4．バースーム・マテリアルズ/Versum Materials, Inc.
（旧エアー・プロダクツ・アンド・ケミカルズ）
【表6．バースーム・マテリアルズDF系製法に関する特許】
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